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開口部全体にわたり同一の光学特性を有するリニアな偏光子と異なり、パターン偏光子では一つの素子は複数のセグメントに分割されています。 各セグメントに各々別々の光学特性、例えば偏光軸の方向性、透過波長域、あるいは透明・半透明など個別の物性を設定することができます。
CODIXX社では、モザイク、リソグラフィという2つのパターン製作テクノロジーにより、偏光子のサイズ、形状及びセグメント数などユーザの多様な仕様要件に対応しております。
モザイク | リソグラフィ | |
---|---|---|
対応波長 | 340-2,650 nm | 340-2,650 nm |
消光比 | 標準製品に準ずる | ~ 10,000:1 他は標準品に準ずる |
各セグメントの解像度 | セグメント数及び形状に依存 (約2~10 mm) |
~30 µm |
セグメント数 | 制約有り | 制約有り |
偏光軸公差 | <0.5-2º | <0.5º |
colorPol® 偏光子の薄いガラス基板は、シリコンウエハと同様に半導体用のダイシングカッターなどで精密に、且つ容易に切断することが可能です。 切断する各セグメントには別々の偏光軸方向及び透過波長域を選択することができます。 切断済みの各セグメントは正確に配列され、上下の搬送用基板に挟み込まれます。
しかしながら、この技法でのパターン偏光子には、サイズ、形状、セグメント数に一定の制約があります。
colorPol® 偏光子の偏光特性は、ガラス基板の表面付近のごく浅い部分に埋め込まれた扁長な形状を持つ銀ナノ粒子により変化します。 このような独自の性質により、リソグラフィ技法を使用するエッチングで一部の銀ナノ粒子を選択的に除去することが可能です。
結果として、リニアな偏光特性を持つ部分と透明な部分とが一枚の基板に混在することになります。 リソグラフィの解像度は30µmですが、銀ナノ粒子を除去するエリアの形状と位置は自由に指定していただけます。 偏光エリアはすべて同一の透過波長と偏光軸を持つことになります。
複数の偏光軸が必要な場合、上述のような処理を施した2枚以上の基板を重ね合わせて対応可能です。(下図参照) 基板枚数が増えると、視差が生ずる原因となります。